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      美國Agilent TwisTorr 84 FS渦輪分子泵

      簡要描述:

      美國Agilent TwisTorr 84 FS渦輪分子泵,安捷倫懸浮軸承系統降低了噪音和振動,并能保證*的軸承工作條件,從而能延長工作壽命,zui大程度減少系統停機時間,并能確保長時間穩定性。TwisTorr84FS泵*的軸承和干式潤滑劑設計,使得泵無需泵油和維護,能夠以任意方向安裝。可選擇一體式控制器或機架控制器。

      型號
      更新時間 2020-08-14
      訪問次數 1931
      美國Agilent TwisTorr 84 FS渦輪分子泵

      高真空渦輪分子泵采用TwisTorr拖動級技術和安捷倫懸浮軸承,具有高性能、高可靠性及經濟性。TwisTorr拖動級技術能提高小分子氣體(如氫氣和氦氣)壓縮比,從而實現大抽氣量和城耐受高前級壓力,進而能使用更經濟實惠、更小型的前級泵。該技術使得轉子能采用緊湊的設計,變得高效節能,并能保持較低的工作溫度。安捷倫懸浮軸承系統降低了噪音和振動,并能保證*的軸承工作條件,從而能延長工作壽命,zui大程度減少系統停機時間,并能確保長時間穩定性。TwisTorr84FS泵*的軸承和干式潤滑劑設計,使得泵無需泵油和維護,能夠以任意方向安裝。可選擇一體式控制器或機架控制器。  

      美國Agilent TwisTorr 84 FS渦輪分子泵特性:

      1.創新的 TwisTorr 技術 — 能提高小分子氣體壓縮比,而非常小巧的轉子設計則實現了高性能和zui小的系統體積。

      2.耐受高前級壓力 — 允許使用更小的前級泵,從而降低了系統成本和尺寸。

      3.安捷倫懸浮軸承系統 — 低振動,低噪音,*的軸承工作條件,延長泵的使用壽命,實現使用維護成本優化,zui大程度減少系統停機時間,并保證長時間穩定的抽氣性能。

      4.*的軸承和干式潤滑劑 — 免維護、免油,實現任意角度安裝。

      5.銅制水冷通道(可選) — 可避免腐蝕,優化熱傳遞性能,降低用水量和使用維護成本。

      典型渦輪泵應用:

      安捷倫渦輪分子泵包括集成泵組和多流路泵,其設計旨在實際應用中達到*性能。泵的緊湊型設計滿足工業中的嚴苛空間要求。渦旋分子泵幾乎不需要維護,并可避免錯誤使用。無論您是終端用戶還是原始設備制造商,安捷倫均可針對您的應用為您提供幫助和支持,或定制適合您的需求的系統。

      美國Agilent TwisTorr 84 FS渦輪分子泵典型渦輪泵應用:

      領域詳細說明應用
      質譜和分析儀器
      • 針對質譜系統優化的全系列泵和控制器
      • 具有多入口泵組的定制泵
      • 低成本、易于使用、高分析性能
      • 對于 GC/MS,提供用于相對低氣體載荷環境的 1 個真空室和用于分析無機樣品的中等真空接口
      • 對于 LC/MS,需要提供多室、高通量真空系統
      • 對于 ICP-MS,提供多種真空系統,包括用于氬氣等重載氣的泵和使用氦氣的碰撞池
      • 對于 TOF 系統,需要較小尺寸、高通量和高效的散熱設備
      • 質譜
      • GC/MS
      • LC/MS
      • ICP-MS
      • TOF
      科研中的真空應用
      • 非常清潔、可靠和高性價比的 HV 和 UHV
      • 粗真空軸承未暴露于 UHV,降低了污染
      • 高速和高壓縮
      • 可以以任意角度安裝
      • 聯用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體
      • 高能物理
      • 融合技術
      • 一般 UHV 研究
      • 同步光源粒子加速器
      工業真空加工
      • 為薄膜沉積應用而專門設計的集成分子泵解決方案
      • 適用于原始設備制造商和終端用戶的專業性能
      • 適用于具有預真空鎖或大型內聯連續系統的單室批量系統和多室系統的泵

      薄膜沉積:

      • 玻璃涂層設備(建筑和汽車玻璃,平板顯示器)
      • 薄膜太陽能電池生產(光電)
      • 光學數據介質(CD、DVD、磁光光盤)
      • 磁性存儲介質
      • 表面處理
      • 光學涂層(眼科、精密光電)
      • 膜或箔上的輥式/卷繞涂覆

      設備加工:

      • 生產電視機和顯示器顯像管
      • 疏散燈(高速公路照明、投影機)
      • X 射線管和電子設備

      一般工藝:

      • 真空爐/冶金
      納米技術儀器
      • 分析從有機化合物到半導體晶片等各類物質
      • 全系列的高真空和超高真空泵特別適用于要求嚴苛的 SEM、TEM 和表面分析系統
      • 低振動渦旋泵適用于zui敏感的顯微分析
      • 可快速、無油式排空大型樣品室內的氣體
      • 集成的泵控制器可靈活進行控制,幾乎不生成電磁噪音
      • 非常適合為半導體生產創造合適環境
      • 高轉速確保能夠以高泵速抽空半導體生產中釋放的輕質氣體(He、H)
      • 符合高速循環應用的嚴格要求,例如真空裝載鎖
      • 通過對多個渦旋泵聯用一個前級泵,可提高工具的可靠性
      • 聯用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體
      • 安裝于支架上的控制器或一體式控制器允許將電子設備放置于遠處
      • 電子顯微鏡(SEM、TEM)
      • 聚焦離子束系統 (FIB)
      • 表面分析
      • 半導體制造

      性能指標

      技術規格

      抽速:
      CFF 4.5 英寸或 ISO 63 配置:CFF 2.75 英寸 配置:KF 40 配置:


      N2:67 L/s

      N2:56 L/s

      N2:49 L/s


      He:63 L/s/

      He:46 L/s

      He:38 L/s/


      H2:53 L/s

      H2:40 L/s

      H2:36 L/s


      Ar:66 L/s

      Ar:57 L/s

      Ar:44 L/s

      全轉速氣體流量(使用推薦的前級泵)
      風冷 (35 °C)
      水冷 (25 °C, 65 L/h)
      N2:100 sccm
      N2:100 sccm
      Ar:70 sccm
      Ar:70 sccm
        
      壓縮比:N2:≥ 1 × 1011He:2 × 106H2:5 × 104Ar:> 1 × 1011
      極限真空*(使用推薦的前級泵)< 5 x 10-10 mbar (< 3.75 x 10-10 Torr)   
      入口法蘭CF 4.5 英寸(外徑)
      CF 2.75 英寸(外徑)
      ISO 63
      KF40
        
      前級管道法蘭KF 16 NW   
      轉速81000 rpm(驅動頻率 1350 Hz)   
      啟動時間< 2 分鐘   
      推薦的前級泵機械:DS 40M-DS 102
      干式泵:Agilent IDP-3,SH 110
         
      工作位置任意位置   
      操作環境溫度+5 °C 至 +35 °C   
      空氣相對濕度0 至 90%(非凝縮)   
      烘烤溫度

      入口法蘭zui高溫度 120 °C(CFF 法蘭)

      入口法蘭zui高溫度 80 ℃(ISO 法蘭)

         
      潤滑油

      yongjiu性潤滑

       

         
      冷卻要求風冷:
      水冷:
      氣流溫度 +5 °C 至 +35 °C
      冷卻水溫度:+15 °C 至 +25 °C

      zui低流速:65 L/h (0.30 GPM)

      壓力:2 至 4 bar(45 至 75 psi)
        
      噪音壓力級別(全速運行時距離 1 m 處)40 dB(A) *   
      儲存溫度-40 °C 至 +70 °C   
      zui高海拔3000 m   
      認證CE、C-CSA-US、RoHS 符合 2011/65/UE 要求   
      重量 kg(磅):

      泵 ISO 63:
      2.5 (5.5)

       

       

       

       

      泵 CFF 4.5 英寸:
      3.5 (7.7)

       

       

       

       

      泵 CFF 2.75 英寸:
      3.34 (7.35)

      泵 KF 40:
      2.37 (5.22)

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